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대기업 간부, 반도체 핵심기술 中에 유출…특허청 기술경찰, 3명 구속



대전

    대기업 간부, 반도체 핵심기술 中에 유출…특허청 기술경찰, 3명 구속

    반도체 연마공정 관련 국가핵심기술 포함…국정원 등과 공조 수사 '6명 기소'
    특허청 "기술범죄 특성상 적발·혐의 입증 어려워…고도의 수사체계 구축 필요"

    특허청 제공특허청 제공
    국내 반도체 기술을 중국에 유출한 대기업과 중견기업 간부 등 6명이 적발돼 기소됐다. 이 가운데 3명은 구속됐다.
     
    특허청(청장 이인실) 기술디자인특별사업경찰(이하 기술경찰)이 국내 기술을 중국에 유출한 국내 대기업과 중견기업 전 직원 3명을 구속하는 등 6명을 기소했다고 26일 밝혔다. 
     
    특허청에 따르면 A회사의 전 직원이자 주범인 ㄱ씨(55.구속)는 임원 승진에 탈락하자 2019년 6월 중국 업체와 반도체 웨이퍼 연마제 제조사업 동업을 약정한다. ㄱ씨는 이 후에도 회사에 계속 근무하면서 메신저 등으로 중국 내 연마제 생산설비 구축과 사업을 관리하는 한편 B·C 회사 연구원인 ㄴ씨(52.구속)와 ㄷ씨(42.구속), ㄹ씨(35.불구속)를 스카우트해 중국으로 이직시켰다. 2020년 5월에는 ㄱ씨 자신도 중국 업체의 사장급으로 이직해 근무했다. 
     
    이들은 컴퓨터 또는 업무용 휴대전화로 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마 공정도 등 회사 기밀자료를 열람하면서 개인 휴대전화로 사진을 촬영하는 수법 등으로 유출한 혐의를 받고 있다.
     
    유출한 자료에는 A·B 회사의 첨단기술이자 영업비밀은 물론 C회사의 반도체 웨이퍼 연마공정 관련 국가핵심기술이자 영업비밀까지 포함됐다. 
     
    특허청 제공특허청 제공
    영화 같은 기술 유출 시도에 기술경찰 등 역시 영화같은 공조 수사로 일당들을 적발했다.
     
    기술경찰은 지난해 3월 국정원 산업기밀보호센터로부터 B회사 연구원 2명에 대한 첩보를 받고 수사에 착수한다. 4월 중국에 체류하던 ㄷ씨 등이 순차적으로 일시 귀국하자 공항경찰과 공조, 공항부터 추적하거나 국정원 공조 하에 잠복수사를 통해 소재지를 급습하고 압수수색을 통해 증거 등을 확보하는데 성공했다. 
     
    이 과정에서 이들의 이직을 주도한 추가 공범과 A·C 회사의 영업비밀 유출 정황을 발견, 추가 입건하는 한편 전원 출국금지 조치 등으로 신병을 확보했고 대전지검은 최근 이들을 산업기술보호법 및 부정경쟁방지법(영업비밀 국외누설 등) 위반 혐의 등으로 모두 기소했다. 
     
    특허청 관계자는 "피해 기업 3곳 가운데 규모가 가장 작은 B의 경우만 하더라도 1천억원 이상의 경제적 피해가 발생했지만, ㄱ씨 등이 유출한 자료로 바탕한 사업이 본격화되기 전에 관련자들을 구속해 추가적인 경제적 피해는 차단할 수 있었다"며 "특히 이번 사건은 기술경찰이 최초로 구속영장을 신청해 주범 3명을 구속한 뒤 검찰에 송치했다는 데 의미가 있다"고 밝혔다. 
     
    한편 특허청 기술경찰은 국가 핵심기술의 해외 유출을 막고 특허권·영업비밀·디자인권 침해·유출 범죄 수사를 위해 2019년 설립된 이 후 2021년 7월 기술범죄 전담조직인 '기술경찰과'로 확대 개편됐으며 특허청은 올해 상반기 기술범죄수사지원센터를 신설할 계획이다. 
     
    김시형 산업재산보호협력국장은 "기술범죄는 전자화되어 저장·이동되는 기술정보의 특성상 적발이 어렵고, 적발되더라도 기술적 쟁점 판단이 어려워 혐의입증 및 처벌로 이어지지 못하는 경우가 많다"며 "적발과 혐의입증, 처벌의 연계를 위한 고도의 수사체계 구축이 필요하다"고 밝혔다.

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